株式会社Noritake成功开发出专为GaN晶圆抛光设计的新型抛光垫。这款创新产品采用有机与无机材料的独特复合技术，使其在强酸性环境中仍能保持出色的耐性。此项突破性进展显著提升了抛光效率。
该新型抛光垫将抛光速率提高约30倍，大幅缩短整体加工时间，为GaN晶圆生产带来革命性的效率提升。同时，通过巧妙地将磨料封装在垫体内，抛光垫的使用寿命得以延长，耐用性提升超过15倍。
由于磨料被嵌入其中，该抛光垫大幅减少甚至无需额外的磨料浆液。这不仅简化了操作流程，更重要的是对减少工业废弃物做出了显著贡献，体现了Noritake对可持续发展的承诺。
