GaN on Sapphire wafer 2inch PG GaN Gallium nitride Semiconductor Substrate

♦️High-quality GaN wafer for Research and Experiment.

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GaN on Sapphire Specification:

• Substrate:Sapphire ；

• Diameter: 50.8+0.1mm ;

• Orientation: C-plane 0.2 +0.1° to M-plane ;

• Thickness: 430+15um ;

• Orientation Flat:A-plane 10.25° ;

• OF Length: 16+1 mm；

• Front Side: CMP Ra ≤ 0.2nm；

• Back Side: Lapping (Ra: 0.6 ~ 1.2um)；

• TTV: ≤10um；

• Bow：-10~0um；

• Warp: ≤ 10um ;

• Laser Mark: Yes；

• Epiwafer Structure

• Layer 2:N-GaN 2~3um;

• Layer 1:Buffer 2~3um;

• Layer 0: Substrate;

• Epitaxy Characteristics

• Total Epitaxy Thickness:5~6um;

• Thickness Std<3% ;

• XRD GaN (002): ≤100 arcsec;

• XRD GaN (102)≤100 arcsec ;

• Dislocation density :~ 1e7 cm-2;

• Conductivity:N-type;

• Resistivy:≤0.1 (ohm-cm);

• Surface Roughness:Ra ≤ 0.5 nm;

• Sori≤ 90 um;

The GaN crystal quality of this new GaN-on-Sapphire substrate and the GaN substrate are at a comparable level.

Currently, PQGaN is a high-quality single-layer GaN material that can be used as a substrate. Customers can extend the GaN structure on top of it.

Furthermore, we can also manufacture customer-specified GaN extension structures on PQGaN substrates on your behalf if needed.

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