シリコンウェーハ 6インチN Type100 0.002~0.004Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 6インチN Type100 0.002~0.004Ω 酸化層半導体基板

SOKA TECHNOLOGY

シリコンウェーハ 6インチN Type100 0.002~0.004Ω 酸化層半導体基板

セール価格$36.90 USD
仕様:N(100) 625um Oxide Layer 300nm
アイテム数:1 アイテム
数量:
♦️研究実験用の高品質シリコンウェーハ。
♦️ 少量、特殊仕様品、カスタマイズ対応も承ります
シリコンウェーハ仕様:
  • サイズ: 6インチ。
  • 方法: CZ;
  • タイプ: N;
  • ドーパント: として;
  • 方向: 100;
  • 抵抗率: 0.002~0.004Ω・cm;
  • 厚さ:600 um±25/625um±25;
  • 酸化層: 280/300/500nm (両面);
  • TTV<15um ;
  • 表面: 研磨;
  • 裏面: エッチング;
  • 梱包:シリコンウエハーケース;

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