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シリコンウェーハ 2インチ Nタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ Nタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板
シリコンウェーハ 2インチ Pタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ Pタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ Nタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ Nタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ Pタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ Pタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板
シリコンウェーハ 2インチ FZ N Type(100/111) >1000Ω 片面研磨 シリコンウェーハ 2インチ FZ N Type(100/111) >1000Ω 片面研磨
シリコンウェーハ 2インチ N型(100) 0.002~0.004Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ N型(100) 0.002~0.004Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 2 インチ P/N タイプ 1~10Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 2 インチ P/N タイプ 1~10Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェハ 2インチ P型 10~20Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェハ 2インチ P型 10~20Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 2インチ N型 0.01~0.02Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ N型 0.01~0.02Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 10~20Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 10~20Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板
Silicon Wafer 3inch FZ N-Type(100) >1000Ω Single Sided Polished Substrate Silicon Wafer 3inch FZ N-Type(100) >1000Ω Single Sided Polished Substrate