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シリコンウェーハ 6インチ FZ(100) R>1000Ω/10000Ω 片面研磨半導体基板 Silicon Wafer Semiconductor 4 Inch FZ
Silicon Wafer Semiconductor 8 Inch シリコンウエハー 8インチ片面ポリシュダミーグレード半導体基板
Silicon Wafer 12inch P Type 1~100Ω Double Sided Polished Test Grade Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon Wafer 12inch P Type 1~100Ω Double Sided Polished Test Grade Semiconductor Substrate - Soka Technology
Silicon Wafer Semiconductor 8 Inch シリコンウェーハ 8インチ P/Nタイプ(100) 1-100Ω 片面研磨ダミーグレード再生基板
Silicon Wafer 18inch Double Sided Polish P100 1~50Ω - Soka Technology Silicon Wafer 18inch Double Sided Polish P100 1~50Ω - Soka Technology
Silicon wafer 3inch P Type(100/111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 3inch P Type(100/111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology
Silicon Wafer 4inch FZ 100 R>1000Ω/>10000Ω Single Sided Polished Substrate - Soka Technology Silicon Wafer 4inch FZ 100 R>1000Ω/>10000Ω Single Sided Polished Substrate - Soka Technology
Silicon Wafer 2inch FZ P/N Type(100/111) >1000Ω Single/Double Sided Polished Substrate - Soka Technology Silicon Wafer 2inch FZ P/N Type(100/111) >1000Ω Single/Double Sided Polished Substrate - Soka Technology
Silicon Wafer 4inch FZ N - Type(111) 50~70Ω Single Side Polished Substrate - Soka Technology Silicon Wafer 4inch FZ N - Type(111) 50~70Ω Single Side Polished Substrate - Soka Technology
8 Inch Single Sided Polish Dummy Grade P >1Ω Semiconductor Silicon Wafer Coin Roll シリコンウエハ 8インチ Pタイプ 1~100Ω片面研磨ダストフリー
シリコンウェーハ 4インチ Pタイプ(100) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Pタイプ(100) 片面/両面研磨半導体基板
Silicon wafer 4inch N Type(100) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type(100) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウェーハ 4インチ Pタイプ(111) 片面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Pタイプ(111) 片面研磨半導体基板
Silicon wafer 3inch N Type(100/111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 3inch N Type(100/111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology
Silicon wafer 2inch N Type(100/111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 2inch N Type(100/111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology
Silicon wafer 2inch P Type(100/111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 2inch P Type(100/111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウエハー 5インチ Nタイプ(100) 片面研磨半導体基板 シリコンウエハー 5インチ Nタイプ(100) 片面研磨半導体基板
シリコンウエハー6インチ Pタイプ(100) 片面研磨半導体基板 シリコンウエハー6インチ Pタイプ(100) 片面研磨半導体基板
シリコンウェハー 6インチ Nタイプ(100/111) 片面研磨半導体基板 シリコンウェハー 6インチ Nタイプ(100/111) 片面研磨半導体基板
シリコンウェハー 4インチ Pタイプ(100) SIN膜150/300nm半導体基板 シリコンウェハー 4インチ Pタイプ(100) SIN膜150/300nm半導体基板
Silicon wafer 4inch N Type 0.01~0.09Ω Oxide Layer 300nm Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type 0.01~0.09Ω Oxide Layer 300nm Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウェーハ 4 インチ P/N タイプ 0.001~0.005Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 4 インチ P/N タイプ 0.001~0.005Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.002~0.004Ω酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.002~0.004Ω酸化膜半導体基板
Silicon wafer 4inch N Type 0.01~0.02Ω Oxide Layer Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type 0.01~0.02Ω Oxide Layer Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウェーハ 4インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板