フィルター

フィルター

$
まで
$
29 製品
並び替え
並び替え
Silicon Wafer 4inch FZ 100 R>1000Ω/>10000Ω Single Sided Polished Substrate - Soka Technology Silicon Wafer 4inch FZ 100 R>1000Ω/>10000Ω Single Sided Polished Substrate - Soka Technology
シリコンウェーハ 6インチ FZ(100) R>1000Ω/10000Ω 片面研磨半導体基板 Silicon Wafer Semiconductor 4 Inch FZ
Silicon Wafer 4inch FZ N - Type(111) 50~70Ω Single Side Polished Substrate - Soka Technology Silicon Wafer 4inch FZ N - Type(111) 50~70Ω Single Side Polished Substrate - Soka Technology
Silicon wafer 4inch N Type(111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type(111) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウェーハ 4インチ Pタイプ(100) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Pタイプ(100) 片面/両面研磨半導体基板
Silicon wafer 4inch N Type(100) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type(100) Single/Double Side Polished Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウェーハ 4インチ Pタイプ(111) 片面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Pタイプ(111) 片面研磨半導体基板
Silicon wafer 4inch P Type(110) Single Side Polished Semiconductor Substrate Silicon wafer 4inch P Type(110) Single Side Polished Semiconductor Substrate
Silicon Wafer 4inch P-Type(100) 1-10Ω 1000um/3000um/5000um Single Sided Polished Substrate Silicon Wafer 4inch P-Type(100) 1-10Ω 1000um/3000um/5000um Single Sided Polished Substrate
シリコンウエハー 5インチ Nタイプ(100) 片面研磨半導体基板 シリコンウエハー 5インチ Nタイプ(100) 片面研磨半導体基板
シリコンウエハー6インチ Pタイプ(100) 片面研磨半導体基板 シリコンウエハー6インチ Pタイプ(100) 片面研磨半導体基板
シリコンウェハー 6インチ Nタイプ(100/111) 片面研磨半導体基板 シリコンウェハー 6インチ Nタイプ(100/111) 片面研磨半導体基板
Silicon wafer 4inch N Type 0.01~0.09Ω Oxide Layer 300nm Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type 0.01~0.09Ω Oxide Layer 300nm Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウェーハ 4 インチ P/N タイプ 0.001~0.005Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 4 インチ P/N タイプ 0.001~0.005Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.002~0.004Ω酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.002~0.004Ω酸化膜半導体基板
Silicon wafer 4inch N Type 0.01~0.02Ω Oxide Layer Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type 0.01~0.02Ω Oxide Layer Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウェーハ 4インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板
Silicon wafer 4inch N Type 10~20Ω Oxide Layer Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type 10~20Ω Oxide Layer Semiconductor Substrate - Soka Technology
シリコンウェハー 4インチ Pタイプ(100) SIN膜150/300nm半導体基板 シリコンウェハー 4インチ Pタイプ(100) SIN膜150/300nm半導体基板
シリコンウェハ 4インチ P型(100) SIN層 50nm半導体基板 シリコンウェハ 4インチ P型(100) SIN層 50nm半導体基板
シリコンウェーハ 6インチN Type100 0.002~0.004Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 6インチN Type100 0.002~0.004Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 6インチ N Type100 0.01~0.02Ω 酸化膜280nm 半導体基板 シリコンウェーハ 6インチ N Type100 0.01~0.02Ω 酸化膜280nm 半導体基板
シリコンウェハー 6インチ Pタイプ(100) 20~50Ω 酸化層 1000nm 半導体基板 シリコンウェハー 6インチ Pタイプ(100) 20~50Ω 酸化層 1000nm 半導体基板
Silicon wafer 6inch P/N Type(100) 1~10Ω Oxide Layer Semiconductor Substrate Silicon wafer 6inch P/N Type(100) 1~10Ω Oxide Layer Semiconductor Substrate
Silicon wafer 4inch N Type(100) 0.01~0.02Ω Gold Layer 100nm Semiconductor Substrate - Soka Technology Silicon wafer 4inch N Type(100) 0.01~0.02Ω Gold Layer 100nm Semiconductor Substrate - Soka Technology