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シリコンウェハー 4インチ Pタイプ(100) SIN膜150/300nm半導体基板 シリコンウェハー 4インチ Pタイプ(100) SIN膜150/300nm半導体基板
シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω アルミ/銅膜半導体基板 シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω アルミ/銅膜半導体基板
シリコンウェーハ 4インチNタイプ0.01~0.09Ω 酸化膜300nm半導体基板 シリコンウェーハ 4インチNタイプ0.01~0.09Ω 酸化膜300nm半導体基板
SOI Substrate 4inch 6inch 8inch Silicon On Insulator Wafer SOI Substrate 4inch 6inch 8inch Silicon On Insulator Wafer
シリコンウェーハ 6インチN Type100 0.002~0.004Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 6インチN Type100 0.002~0.004Ω 酸化層半導体基板
シリコンウエハー 8インチ P型 1-100Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウエハー 8インチ P型 1-100Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェハ 4インチ Pタイプ(100) 0.005-0.01Ω ニッケル層 1000nm 半導体基板
シリコンウェハ 4インチ N型(100) 0.01~0.02Ω 金膜 100nm 半導体基板 シリコンウェハ 4インチ N型(100) 0.01~0.02Ω 金膜 100nm 半導体基板
シリコンウェハ 4インチ N型(111) 6~12Ω シルバ膜 100nm 半導体基板 シリコンウェハ 4インチ N型(111) 6~12Ω シルバ膜 100nm 半導体基板
シリコンウェーハ 4 インチ P/N タイプ 0.001~0.005Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 4 インチ P/N タイプ 0.001~0.005Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.002~0.004Ω酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.002~0.004Ω酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.01~0.02Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.01~0.02Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 4インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 4インチ N型 10~20Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ N型 10~20Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 6インチ N Type100 0.01~0.02Ω 酸化膜280nm 半導体基板 シリコンウェーハ 6インチ N Type100 0.01~0.02Ω 酸化膜280nm 半導体基板
シリコンウェハー 6インチ Pタイプ(100) 10~20Ω 酸化層 300nm 半導体基板 シリコンウェハー 6インチ Pタイプ(100) 10~20Ω 酸化層 300nm 半導体基板
シリコンウェハ 4インチ P型(100) SIN層 50nm半導体基板 シリコンウェハ 4インチ P型(100) SIN層 50nm半導体基板
シリコンウェーハ 2インチ N型(100) 0.002~0.004Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ N型(100) 0.002~0.004Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 2 インチ P/N タイプ 1~10Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 2 インチ P/N タイプ 1~10Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェハ 2インチ P型 10~20Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェハ 2インチ P型 10~20Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 2インチ N型 0.01~0.02Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ N型 0.01~0.02Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 10~20Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 10~20Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板