シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω 酸化層半導体基板

SOKA TECHNOLOGY

シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω 酸化層半導体基板

セール価格$1,890.00 USD
アイテムの数:25 アイテム
仕様:酸化膜100nm
数量:
♦️研究実験用の高品質シリコンウェーハ。
♦️ 少量、特殊仕様品、カスタマイズ対応も承ります
シリコンウェーハ仕様:
  • サイズ: 12インチ。
  • 方法: CZ;
  • タイプ: P;
  • ドーパント:B;
  • 方向:100;
  • 抵抗率: 1~100Ω;
  • 厚さ: 775um±25;
  • 酸化膜:100nm/300nm/500nm/1000nm(両面)
  • 表面: 研磨;
  • 裏側: 磨かれた;
  • パッキング: シリコンウェハケース;

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