Die Tohoku University in Japan hat eine neue Technologie entwickelt, um Oxid-Einkristalle bei hohen Temperaturen von 2200°C oder höher unter Verwendung eines Wolfram-Tiegels mit hohem Schmelzpunkt herzustellen.Bisher war die Materialentwicklung im Hochtemperaturbereich über 2200°C schwierig.
Durch die Aufklärung und Unterdrückung der Reaktions- und Kontaminationsmechanismen des Wolfram-Tiegels gelang jedoch die erfolgreiche Herstellung von Oxid-Einkristallen mit hoher Dichte.
Es wird erwartet, dass diese Technologie bei Szintillatoren eingesetzt wird, und sie könnte auch zur Kostensenkung bestehender Einkristallmaterialien durch den Ersatz von Tiegeln aus Edelmetall beitragen.
