ASMLは、2026年通期の売上高見通しを430億～450億ユーロに正式に上方修正しました。 この大幅な修正は、特にDRAMおよび先端ロジックのファウンドリ製造向け用途に牽引された、極端紫外線リソグラフィシステムに対する世界的な堅調需要を反映しています。
人工知能インフラへの投資を背景に、ASMLは極端紫外線システムの出荷台数が年内に65台に達すると見込んでいます。メモリー関連の純システム売上高は、前年比で75％超の急増が予想されています。 同時に、先端ロジックノードからの売上高は25％超の増加が見込まれています。
現在の節目を超えて見ると、同社は半導体製造装置の強い需要が2027年以降も続くと予想しています。 この下流メーカーからの継続的な需要に対応するため、ASMLは低開口数の極端紫外線装置の生産能力を2027年に30％拡大し、2028年にもさらに30％の拡張を計画しています。アルゴンフッ化物液浸装置の生産能力も2027年に30％拡大され、進行中の人工知能ブームを支える包括的なハードウェア基盤が確保されます。
