東レマ株式会社は、韓国の持分法適用関連会社であるHantok Chemicalsが、京畿道平沢市に新たな製造施設の建設に正式に着工したと発表しました。この戦略的な拡張は、先端半導体製造材料に対する世界的な需要の急増に対応することを目的としています。
1995年に設立されたHantok Chemicalsは、日本の東レマ株式会社と韓国のLOTTE Chemicalによる五分五分の合弁会社として、非常に高い成功を収めています。同社は長年にわたり地域の電子機器サプライチェーンにおける重要なプレーヤーであり、主要製造拠点を蔚山に置いています。新しい平沢工場は、1,300億韓国ウォンという巨額の投資で、広さは32,000平方メートルに及びます。新拠点での商業運転は2027年9月に正式に開始される予定です。
この施設では、高純度の半導体グレードのテトラメチルアンモニウム水酸化物、一般にフォトレジスト現像液として知られる製品の生産に特化します。テトラメチルアンモニウム水酸化物は、現代のシリコンウェーハ上に極微細な回路パターンを形成する重要なフォトリソグラフィ工程で使用される不可欠な化学剤です。業界が3ナノメートル未満のノードや複雑な3次元トランジスタアーキテクチャへと進化する中、現像液に求められる量と純度の要件は飛躍的に高まっています。
主要な韓国の半導体産業クラスターに近接する平沢にこの第2生産拠点を設けることで、Hantok Chemicalsはテトラメチルアンモニウム水酸化物の総生産能力を約50％引き上げることを目指しています。蔚山と平沢を結ぶこの二拠点生産戦略により、サプライチェーンの強靭性、物流効率、主要顧客への対応速度が大幅に向上します。このような先行投資は、急速な技術変革の中でも世界の半導体サプライチェーンの安定を確保します。
