Intelは、アイルランドのレイクスリップ・キャンパスにおける製造能力を拡大するため、50億ユーロの資本投資を正式に発表しました。 この戦略的拡張は主にIntel 3プロセスノードを対象としており、3 nanometer classの技術レベルで動作し、主力のXeon 6シリーズや次世代データセンタープロセッサーを含むサーバー向けコンピューティングチップへの世界的な需要の加速に応えるものです。
この拡張プロジェクトでは、Fab 34内の既存クリーンルームスペースを活用し、最先端の半導体製造装置と極端紫外線リソグラフィーのインフラを導入します。 主要な運用改善として、複数の施設モジュールを統合し、天井空中搬送の自動材料搬送トラックシステムを拡張することで、ウェーハのスループットと運用効率を最大化します。
この巨額投資は、Intel Foundryが自社製品と外部のファウンドリー顧客の双方に最先端のシリコン製造を提供するというコミットメントを強く示しています。 この動きは、IntelがApollo Global ManagementのFab 34における49％の持分を142億US dollarsで買い戻し、欧州有数のウェーハファブを100％Intel所有に戻したことに続くものです。 1989年以降、アイルランドに300億ユーロ超を投資してきたことで、この新たなコミットメントは先端半導体サプライチェーンにおける欧州の中心的役割をさらに強固にします。
