10 製品
並び替え
並び替え
Silicon Nitride 熱伝導 Si3N4 セラミック基板 - Soka Technology 窒化ケイ素 高熱伝導 Si3N4 ヒートシンク用セラミック基板
silicon nitride製熱基板。銅クラッドを重ねたSiN IGBTヒートシンク。 Silicon Nitride製熱基板SiN IGBTヒートシンク。銅クラッド仕様で、高品質な導電性素材を採用。
アルミニウム窒化物 2~12インチ AINウェハー 高純度ファインセラミックス基板 - Soka Technology
アルミナ(酸化アルミニウム)25mm 高純度セラミック基板 アルミナ(酸化アルミニウム)25mm 高純度セラミック基板
高純度の超微粒子セラミック窒化ケイ素粉末 - Soka Technology 高純度の超微粒子セラミック窒化ケイ素粉末 - Soka Technology
窒化ケイ素(Si3N4)G5等級の高純度セラミックベアリングボール - Soka Technology 窒化ケイ素(Si3N4)G5等級の高純度セラミックベアリングボール - Soka Technology
窒化ケイ素(Si3N4)G5等級の高純度セラミックベアリングボール - Soka Technology 窒化ケイ素(Si3N4)G5等級の高純度セラミックベアリングボール - Soka Technology
窒化ケイ素(Si3N4)G5等級の高純度セラミックベアリングボール - Soka Technology 窒化ケイ素(Si3N4)G5等級の高純度セラミックベアリングボール - Soka Technology
窒化ケイ素(Si3N4)G5等級の高純度セラミックベアリングボール - Soka Technology 窒化ケイ素(Si3N4)G5等級の高純度セラミックベアリングボール - Soka Technology
alt
研究用およびカスタマイズ向けのMgAl2O4スピネル基板、MgO基板、片面研磨ウェハー。反射面上に表示。 MgAl2O4スピネル基板ウェハー、研究・実験用。高品質、片面研磨。フォーカスキーワード:MgO基板。