1～3インチ シリコンウェーハ

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シリコンウェハー 1inch P/Nタイプ(100/111) 両面/片面研磨 半導体基板
シリコンウェハー 1inch P/Nタイプ(100/111) 両面/片面研磨 半導体基板
$195.00 より
保護包装入りの2インチN型(100/111)片面/両面研磨シリコンウェーハ、半導体基板。 保護包装入りの2インチN型(100/111)片面/両面研磨シリコンウェーハ、半導体基板。
シリコンウェハー 2inch N型(100/111) 片面/両面研磨 半導体基板
$29.00 より
保護包装入りの2インチN型(100/111)片面/両面研磨シリコンウェーハ、半導体基板。 alt シリコンウェーハ 3inch P型(100/111) 両面/片面研磨 半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェーハ 2inch P型(100/111) 片面/両面研磨 半導体基板
$29.00 より
3インチ N型(100/111) 単面/両面研磨シリコンウエハー 半導体基板 - Soka Technology alt シリコンウェーハ 3inch P型(100/111) 両面/片面研磨 半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェハー 3inch N型(100/111) 片面/両面研磨済み 半導体基板
$30.90 より
3インチ N型(100/111) 単面/両面研磨シリコンウエハー 半導体基板 - Soka Technology alt シリコンウェーハ 3inch P型(100/111) 両面/片面研磨 半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェーハ 3inch P型 (100/111) 片面/両面研磨 半導体基板
$30.90 より
Silicon Wafer 4inch FZ N型(111) 50~70Ω 片面研磨基板 - Soka Technology 半導体研究用の保護容器入りシリコンウェーハ 4inch、P/N Type(100)、1〜5Ω。
シリコンウェハー 2inch FZ P/N タイプ(100/111) >1000Ω 単面/両面研磨基板
$29.90 より
Silicon Wafer 4inch FZ N型(111) 50~70Ω 片面研磨基板 - Soka Technology 半導体研究用の保護容器入りシリコンウェーハ 4inch、P/N Type(100)、1〜5Ω。
シリコンウェーハ 3inch FZ(100) >1000Ω/>10000Ω 片面研磨基板
$32.90 より
シリコンウェハ 3インチ P/N Type 1~10Ω 酸化膜半導体基板 - Soka Technology alt シリコンウェーハ 4inch N型 10~20Ω 酸化膜付き半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェーハ 2inch P/N Type(100) 0.001~0.009Ω 酸化膜 半導体基板
$35.00 より
シリコンウェハ 3インチ P/N Type 1~10Ω 酸化膜半導体基板 - Soka Technology alt シリコンウェーハ 4inch N型 10~20Ω 酸化膜付き半導体基板 - Soka Technology
シリコンウエハー 2inch P/N型 1~100Ω 酸化膜層 半導体基板
$35.00 より
シリコンウェハ 3インチ P/N Type 1~10Ω 酸化膜半導体基板 - Soka Technology alt シリコンウェーハ 4inch N型 10~20Ω 酸化膜付き半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェーハ 2inch P型 10〜20Ω 酸化層 半導体基板
$35.00 より
シリコンウェハ 3インチ P/N Type 1~10Ω 酸化膜半導体基板 - Soka Technology SiO₂基板上のSiN付き4インチP型(100)シリコンウェハー - 高品質な研究用材料。
シリコンウェーハ 2inch P/N タイプ 0.01~0.09Ω 酸化膜 半導体基板
$35.00 より
SiO₂基板上のSiN付き4インチP型(100)シリコンウェハー - 高品質な研究用材料。 alt シリコンウェーハ 4inch N型 10~20Ω 酸化膜付き半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェハ 3inch P型 10~20Ω 酸化膜 半導体基板
$39.00 より
SiO₂基板上のSiN付き4インチP型(100)シリコンウェハー - 高品質な研究用材料。 シリコンウェハ 3インチ P/N Type 1~10Ω 酸化膜半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェーハ 3inch P/N Type 1~10Ω 酸化膜付き半導体基板
$39.00 より
SiO₂基板上のSiN付き4インチP型(100)シリコンウェハー - 高品質な研究用材料。 シリコンウェハ 3インチ P/N Type 1~10Ω 酸化膜半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェーハ 3inch P型 0.001~0.009Ω 酸化膜 半導体基板
$39.00 より
保護包装入りの2インチN型(100/111)片面/両面研磨シリコンウェーハ、半導体基板。 alt シリコンウェーハ 3inch P型(100/111) 両面/片面研磨 半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェーハ 2インチ FZ 両面研磨 半導体基板
$100.00 より
Siliconウェハー 4inch P Type(100) SiN on SiO₂基板を保管容器に収納し、高品質な素材を示しています。 alt シリコンウェーハ 4inch N型 10~20Ω 酸化膜付き半導体基板 - Soka Technology
シリコンウェハー 乾式酸化層 P/N型 半導体基板
$450.00 より