シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板
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シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板

SOKA TECHNOLOGY

シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板

セール価格$27.50 USD
アイテムの数:1 アイテム
仕様:P(100) 酸化物層100nm
数量:

♦️研究実験用の高品質シリコンウェーハ。
♦️少量、特殊仕様品、カスタマイズサービスを提供します
シリコンウェーハ仕様:
  • サイズ: 3インチ。
  • 方法: CZ;
  • タイプ: P;
  • ドーパント:B;
  • 方向:100;
  • 抵抗率: 0.01~0.09Ω;
  • 厚さ: 525um±25;
  • 酸化層: 100nm/300nm(両面)。
  • TTV<10um ;
  • 表面: 研磨;
  • 裏面: エッチング;
  • 梱包:シリコンウエハーケース;

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