ASMLはリソグラフィーシステムの世界的リーダーとして、2026年の業績見通しを大幅に上方修正し、総収益を340億〜390億 Eurosと予想しています。この楽観的な調整は、前四半期末に注文が異常に急増したことに伴う年間成長率が最大20%程度になる可能性を反映しています。過去数か月で市場のセンチメントは劇的に改善しており、ASMLは次の半導体スーパーサイクルの中心に位置づけられています。
この成長の主因はExtreme Ultraviolet（EUV）リソグラフィー分野です。先端ロジックゲートやDRAMチップの生産拡大に伴い、EUVシステムへの需要は急増しています。Deep Ultravioletやその他の非EUVシステムは安定した性能を維持する見込みですが、サブ2ナノメートルノードへの移行により、ASMLの高性能装置は不可欠になりつつあります。
さらに同社は、計測および検査システムを含むリソグラフィーポートフォリオ全体の大規模な拡張を見込んでいます。チップの複雑化が進むにつれて、歩留まりを維持するための厳格なプロセス管理に業界の注目が移っています。地域別では、中国からの収益寄与は現状の受注残に沿って約20%で安定すると見込まれています。ASMLの次世代High Numerical Aperture（高NA）EUVシステムへの戦略的シフトは、今後10年間の半導体製造の風景を定義する可能性が高いでしょう。
