ワイドバンドギャップ半導体のリーダーであるNovel Crystal Technologyは、150mm径のβ型酸化ガリウム基板のサンプル出荷を3月から開始すると正式に発表しました。この節目は、従来の100mm規格から大きく前進するものであり、パワーエレクトロニクスに新たな時代の到来を示しています。
150mm（6インチ）ウェハーへの移行は、半導体業界にとって極めて重要です。Novel Crystal Technologyは、エッジ定義フィルム供給法（EFG法）を活用することで、溶融成長プロセスの利点を生かしています。これにより、Silicon Carbideで用いられる従来手法と比べて、迅速なスケールアップと、より安定した高品質・大口径基板の供給が可能になります。
業界では、この動きがβ型酸化ガリウムパワーデバイスの量産を加速させると見込んでいます。これらのデバイスは、高い耐電圧と効率が評価されており、電気自動車や再生可能エネルギーの電力網に不可欠です。同社のロードマップによると、150mmエピタキシャルウェハーのサンプルは2027年に予定されており、本格的な量産は2029年に開始される見込みです。効率的な電力変換への需要が高まる中、酸化ガリウムは既存の高出力材料に代わる、コスト効率の高い後継材料としての地位を確立しつつあります。
