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シリコンウェーハ 12インチ 再生両面ポリシュ半導体基板 シリコンウェーハ 12インチ 再生両面ポリシュ半導体基板
Silicon Wafer 12inch Double Sided Polished Substrate Wafer case Silicon Wafer 12inch Double Sided Polished Substrate Wafer case
シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω アルミ/銅膜半導体基板 シリコンウェーハ 12 インチ P タイプ 1-100Ω アルミ/銅膜半導体基板
シリコンウエハ 12インチ Pタイプ1~100Ω 両面研磨ダストフリー シリコンウエハ 12インチ Pタイプ1~100Ω 両面研磨ダストフリー
シリコンウエハ 18インチ 両面ポリッシュP110 1~50Ω silicon Wafer Semiconductor 18 Inch
シリコンウェーハ 2インチ FZ Nタイプ(100) 5000~10000Ω 片面研磨 シリコンウェーハ 2インチ FZ Nタイプ(100) 5000~10000Ω 片面研磨
シリコンウェーハ 2インチ N型 0.01~0.02Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ N型 0.01~0.02Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 2インチ N型(100) 0.002~0.004Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ N型(100) 0.002~0.004Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 2インチ Nタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ Nタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板
シリコンウェハ 2インチ P型 10~20Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェハ 2インチ P型 10~20Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 2インチ Pタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 2インチ Pタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板
シリコンウェーハ 2 インチ P/N タイプ 1~10Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 2 インチ P/N タイプ 1~10Ω 酸化層半導体基板
Silicon Wafer 3inch FZ N-Type(100) >1000Ω Single Sided Polished Substrate Silicon Wafer 3inch FZ N-Type(100) >1000Ω Single Sided Polished Substrate
シリコンウェーハ 3インチ Nタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ Nタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板
シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板 シリコンウェーハ 3 インチ P タイプ 0.01 ~ 0.09Ω 酸化層半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ Pタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ Pタイプ(100/111) 片面/両面研磨半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 10~20Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 10~20Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 3インチ P/Nタイプ 1~10Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 4インチ FZ Nタイプ(100) >1000Ω 片面研磨 シリコンウェーハ 4インチ FZ Nタイプ(100) >1000Ω 片面研磨
シリコンウェーハ 4インチ FZ Nタイプ(111) 50~70Ω片面研磨 Silicon Wafer Semiconductor 4 Inch FZ
シリコンウェーハ 4インチ FZ P-Type(100)>10000Ω 片面研磨 Silicon Wafer Semiconductor 4 Inch FZ
シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.01~0.02Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ Nタイプ 0.01~0.02Ω 酸化膜半導体基板
シリコンウェーハ 4インチNタイプ0.01~0.09Ω 酸化膜300nm半導体基板 シリコンウェーハ 4インチNタイプ0.01~0.09Ω 酸化膜300nm半導体基板
シリコンウェーハ 4インチ N型 10~20Ω 酸化膜半導体基板 シリコンウェーハ 4インチ N型 10~20Ω 酸化膜半導体基板